TriboLab CMP化学机械抛光机

TriboLab CMP 利用其前身产品 （Bruker CP-4） 超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 是市场上能够提供广泛的抛光压力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具，可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。

一、亮点

1）------小规模研发系统中的 ROI

此台式工具可再现全尺寸晶圆抛光工艺条件，而无需在生产设备上停机。

2）灵活------参数控制

允许量身定制的测试，以加快材料开发，并精确优化流程。

3）专家------应用和支持

我们与大型安装基地合作多年，为您的实验室提供专业知识。

二、特点

1）特征------用于 CMP 的小型研发规模专业系统

布鲁克的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专为晶圆抛光工艺而设计，是具有可靠、灵活和高效的台式设备。

      * 重现全尺寸晶圆抛光工艺条件，无需在生产设备上停机；

      * 提供的测量可重复性和细节检测；

      * 允许在小样品上进行测试，比全晶圆测试节省大量成本。

2）板载诊断系统可以更好地了解抛光过程

     * 比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光过程的参数；

     * 从接触抛光盘开始直至整个测试过程都能收集数据；

     * 通过更完整、更详细的数据实现早期流程开发决策。

3）具有灵活的样品类型、尺寸和安装配置

     * 抛光任何平面材料，几乎能使用任何修正盘，任何抛光液，和任何抛光垫；

     * 轻松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圆；

     * 可同时安装多个样品，测试更灵活。

三、相关图片